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本課程是“電子信息科學與技術”、“微電子科學與工程”等專業(yè)的核心課程。全面系統(tǒng)地介紹了微電子工藝基礎知識,重點闡述了芯片制造單項工藝,包括:外延、熱氧化、擴散、離子注入、化學汽相淀積、物理汽相淀積、光刻、刻蝕。還介紹了金屬互連、典型工藝集成、關鍵工藝設備,以及微電子工藝未來發(fā)展趨勢。通過本課程的學習能使學生對微電子工藝技術有全面了解,為后續(xù)專業(yè)課程學習打下堅實基礎。也利于學生專業(yè)素養(yǎng)的提高。

微電子制造工藝在微電子整體產(chǎn)業(yè)中處于中游階段(上游是電路設計,下游是封裝測試)。一個芯片的制造能否達到設計要求,與制造工藝有很大的關系,因此有必要對工藝線的流程為大家說明講清楚。我們手中使用的mobilephone,camera,ipad 內部電路板上焊接的形狀各異外形詭異的小芯片都是如何造出來?想必大家都是有興趣知道的。即使沒有電子工程的基礎,通過我的講解也是可以,你對這個最精密自動化程度最高的行業(yè)有一個清晰的輪廓。

IC(integrate circuit)的制造分為前工序和后工序。

前工序:IC制造工程中,晶圓光刻的工藝(即所調流片),被稱為前工序,這是IC制造的最要害技術。


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