- 0.1化學鍵性質(zhì)與相應的晶體結(jié)構(gòu)(I)
- 0.2化學鍵性質(zhì)與相應的晶體結(jié)構(gòu)(II)
- 0.3化學鍵性質(zhì)與相應的晶體結(jié)構(gòu)(III)
- 0.4化學鍵性質(zhì)與相應的晶體結(jié)構(gòu)(IV)
- 0.5金剛石結(jié)構(gòu)的各向異性(I)
- 0.6金剛石結(jié)構(gòu)的各向異性(II)
- 0.7金剛石結(jié)構(gòu)的各向異性(III)
- 0.8砷化鎵晶體的極性1
- 0.9砷化鎵晶體的極性2
- 0.10砷化鎵晶體的極性3
- 1.1半導體中的電子狀態(tài)與能帶(1)--1
- 1.1半導體中的電子狀態(tài)與能帶(1)--2
- 1.1半導體中的電子狀態(tài)與能帶(2)--1
- 1.1半導體中的電子狀態(tài)與能帶(2)--2
- 1.1半導體中的電子狀態(tài)與能帶(3)--1
- 1.1半導體中的電子狀態(tài)與能帶(3)--2
- 1.2半導體中電子的運動 有效質(zhì)量1
- 1.2半導體中電子的運動 有效質(zhì)量2
- 1.3本征半導體的導電機制 空穴1
- 1.3本征半導體的導電機制 空穴2
- 1.4回旋共振(2)1
- 1.4回旋共振(2)2
- 1.5Si和Ge的導帶結(jié)構(gòu)1
- 1.5Si和Ge的導帶結(jié)構(gòu)2
- 1.6III-V族化合物半導體的能帶結(jié)構(gòu)1
- 1.6III-V族化合物半導體的能帶結(jié)構(gòu)2
- 2.1Si和Ge中的雜質(zhì)能級(III)1
- 2.1Si和Ge中的雜質(zhì)能級(III)2
- 2.1Si和Ge中的雜質(zhì)能級1
- 2.1Si和Ge中的雜質(zhì)能級2
- 2.2III-V族化合物半導體中的雜質(zhì)和缺陷能級
- 2.3缺陷 位錯能級
- 3.1狀態(tài)密度1
- 3.1狀態(tài)密度2
- 3.2費米能級1
- 3.2費米能級2
- 3.4雜質(zhì)半導體中的載流子濃度1
- 3.4雜質(zhì)半導體中的載流子濃度2
- 5.7載流子的漂移運動 愛因斯坦關(guān)系
- 預備性知識1
- 預備性知識2
- 預備性知識3
- 預備性知識4
- 預備性知識5
- 預備性知識6
- 預備性知識7
- 預備性知識8
- 7.1金屬與半導體接觸及其能帶圖1
- 7.1金屬與半導體接觸及其能帶圖2
- 7.2金屬半導體整流理論1
- 7.2金屬半導體整流理論2
- 7.3少數(shù)載流子注入和歐姆接觸1
- 7.3少數(shù)載流子注入和歐姆接觸2
- 8.2表面電場效應1
- 8.2表面電場效應2
- 8.3MIS結(jié)構(gòu)的電容-電壓特性
- 8.4Si-SiO2系統(tǒng)的性質(zhì)
- 8.5表面電導及遷移率
- 8.6表面電場對PN結(jié)特性的影響1
- 8.6表面電場對PN結(jié)特性的影響2
- 9.1異質(zhì)結(jié)及其能帶圖
- 9.2異質(zhì)結(jié)的電流輸運機構(gòu)1
- 9.2異質(zhì)結(jié)的電流輸運機構(gòu)2
- 9.3異質(zhì)結(jié)在器件中的應用
- 9.4半導體超晶格
- 10.1半導體的光學常數(shù)
- 10.2 半導體的光吸收1
- 10.2 半導體的光吸收2
- 10.2 半導體的光吸收3
- 10.3半導體的光電導1
- 10.3半導體的光電導2
- 10.4 半導體的光生伏特效應
- 10.5半導體發(fā)光1
- 10.5半導體發(fā)光2
- 10.6半導體激光1
- 10.6半導體激光2
- 10.7半導體光電探測器
- 11.0半導體的熱點性質(zhì)
- 12.1霍爾效應1
- 12.1霍爾效應2
- 12.2磁阻效應1
- 12.2磁阻效應2
- 12.5熱磁效應
- 12.6光電磁效應1
- 12.6光電磁效應2
- 12.7壓阻效應
本課程圍繞半導體物理基礎(chǔ)理論和半導體主要性質(zhì),共分為四部分,七章。前兩章為第一部分,介紹半導體物理的基礎(chǔ)知識,包括半導體的晶體結(jié)構(gòu)、量子力學初步概要、價鍵模型、半導體的電子結(jié)構(gòu);第二部分由兩章組成,分別定性、定量闡述半導體中的載流子;第三部分由一章構(gòu)成,描述三維半導體中的電輸運;第四部分討論半導體的結(jié),闡述金屬-半導體的接觸、半導體表面效應和MIS結(jié)構(gòu)。同時為大家?guī)硪幌盗辛曨}的解析。
1.半導體中的電子狀態(tài) 半導體的晶格結(jié)構(gòu)和結(jié)合性質(zhì);半導體中的電子狀態(tài)和能帶;半導體中電子的運動、有 效質(zhì)量;本征半導體的導電機構(gòu)、空穴;回旋共振;硅和鍺的能帶結(jié)構(gòu);Ⅲ–Ⅴ族化合物半 導體的能帶結(jié)構(gòu);Ⅱ–Ⅵ族化合物半導體的能帶結(jié)構(gòu);Si1-xGex 合金的能帶;寬禁帶半導體 材料。 2.半導體中雜質(zhì)和缺陷能級 硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級;Ⅲ–Ⅴ族化合物中的雜質(zhì)能級;氮化鎵、氮化鋁、碳化硅中 的雜質(zhì)能級;缺陷、位錯能級。 3.半導體中載流子的統(tǒng)計分布 狀態(tài)密度;費米能級和載流子的統(tǒng)計分布;本征半導體的載流子濃度;雜質(zhì)半導體的載 流子濃度;一般情況下的載流子統(tǒng)計分布;簡并半導體;電子占據(jù)雜質(zhì)能級的概率。 4.半導體的導電性 載流子的漂移運動和遷移率;載流子的散射;遷移率與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系;電阻率 及其與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系;玻耳茲曼方程、電導率的統(tǒng)計理論;強電場下的效應、熱載 流子;多能谷散射、耿氏效應。
5.非平衡載流子 非平衡載流子的注入與復合;非平衡載流子的壽命;準費米能級;復合理論;陷阱效應; 載流子的擴散運動;載流子的漂移擴散,愛因斯坦關(guān)系式;連續(xù)性方程式;硅的少數(shù)載流子 壽命與擴散長度。 6.pn 結(jié) pn 結(jié)及其能帶圖;pn 結(jié)電流電壓特性;pn 結(jié)電容;pn 結(jié)擊穿;pn 結(jié)隧道效應。 7.金屬和半導體接觸 金屬半導體接觸及其能級圖;金屬半導體接觸整流理論;少數(shù)載流子的注入和歐姆接觸。 8.半導體表面和 MIS 結(jié)構(gòu) 表面態(tài);表面電場效應;MIS 結(jié)構(gòu)的 C–V 特性;硅–二氧化硅系統(tǒng)的性質(zhì);表面電導 及遷移率;表面電場對 pn 結(jié)特性的影響。 9.半導體異質(zhì)結(jié)構(gòu) 半導體異質(zhì)結(jié)及其能帶圖;半導體異質(zhì) pn 結(jié)的電流電壓特性及注入特性;半導體異質(zhì) 結(jié)量子阱結(jié)構(gòu)及其電子能態(tài)與特性;半導體應變異質(zhì)結(jié)構(gòu);GaN 基半導體異質(zhì)結(jié)構(gòu);半導 體超晶格。 10.半導體的光學性質(zhì)和光電與發(fā)光現(xiàn)象 半導體的光學常數(shù);半導體的光吸收;半導體的光電導;半導體的光生伏特效應;半導 體發(fā)光;半導體激光;半導體異質(zhì)結(jié)在光電子器件中的應用。 11.半導體的熱電性質(zhì) 熱電效應的一般描述;半導體的溫差電動勢率;半導體的珀耳帖效應;半導體的湯姆遜 效應;半導體的熱導率;半導體熱電效應的應用。
